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研究実績

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2012年

学術論文誌

“Crystallization of Si Thin Film on Flexible Plastic Substrate by Blue Multi-Laser Diode Annealing”
T. Okada, J.D.Mugiraneza, K.Shirai, T.Suzuki, T.Noguchi, H.Matsushima, T.Hashimoto, Y.Ogino, E.Sahota,
Jap. J. Appl. Phys. 51(2012) 03CA02.

“Crystallization of Silicon Films of Submicron Thickness byBlue-Multi-Laser-Diode Annealing”,
J. D. Mugiraneza, K. Shirai, T. Suzuki, T. Okada, T. Noguchi, H. Matsushima, T. Hashimoto, Y. Ogino, E. Sahota,
Journal of the Korean Physical Society, Vol. 60, No. 1, January 2012, pp. 88_93.

国際会議および国内会議

国際会議

“Low energy-cost TFT technologies using ultra-thin flexible glass substrate”
N. Yamauchi, T. Itoh, T. Noguchi,
AM-FPD2012, P-L6, p.213, 2012 (Kyoto, Nihon).

“Proposal of μ-Poly Si TFT for Advanced FPD with High Photo-Sensitive PIN-Diode by BLDA”
T. Mukae, K. Sugihara, T. Sugihara, K. Shirai, T. Okada, T. Noguchi, T. Ohachi,
Proc. of IMID 2012, 2012 (Seoul, Korea).

“Uniform micro poly-Si grains in smooth films with (111) preferred orientation by Blue-Multi-Laser-Diode Annealing (BLDA)”,
K. Shirai, J. D. Mugiraneza, T. Okada, T. Suzuki, T. Noguchi,
Proc. of IMID 2012, Korea, 2012 (Seoul, Korea).

“Crystallization of amorphous silicon films on flexible glass by Blue-Multi-Diode-Laser Annealing as a new LTPS.”
T. Noguchi, T. Nishinohara, J.D. Mugiraneza, K. Shirai, T. Okada,
Proc. of SID, L P-140L, p.1129, 2012 (Boston, USA).

“Influence of grain size deviation on device characteristics of TFTs and displays for OLED driving”,
K. Shirai, T. Noguchi,
Work shop Digest of AWAD 2012, 3A-6, p.82, 2012 (Naha, Nihon).

“Crystallization of a-Si Films with Smooth Surface Using Blue-Multi-Laser-Diode-Annealing”,
T. Okada, J. D. Mugiraneza, K. Shirai, T. Nishinohara, T. Mukae, K. Yagi, T. Noguchi, Work shop Digest of AWAD 2012, 4C-1, p.85, 2012 (Naha, Nihon).

“Characterization of Optimized Sputtered Poly-Si Films by Blue-Multi-Laser-Diode Annealing for High Performance Displays”,
T. Nishinohara, J. D. Mugiraneza, K. Shirai, T. Okada, T. Noguchi,
Work shop Digest of AWAD 2012, 4C-2, p.88, 2012 (Naha, Nihon).

“Effective Annealing of Si Films as an advanced LTPS”,
T. Noguchi, T. Nishinohara, J. D. Mugiraneza, K. Shirai, T. Okada,
Work shop Digest of AWAD 2012, 4C-3, p.91, 2012 (Naha, Nihon).

“Suppression of Atom-Migration Effect and Recovery by SR Soft X-ray Irradiation”,
Takuto Fukuoka, Akira Heya, Naoto Matsuo, Yuichi Haruyama, Kazuhiro Kanda, Takashi Noguchi,
AMDp2 ? 4, IDW/AD ’12, p.913, 2012 (Kyoto, Nihon).

“Electrical Characterization of Nitrogen-Excess SiNx Films Deposited by Surface Wave Plasma Chemical Vapor Deposition”,
Keisuke Yagi, Tatsuya Okada, Takashi Noguchi, Kazufumi Azuma,
AMDp2 ? 7, IDW/AD ’12, p.925, 2012 (Kyoto, Nihon).

“Proposal of μ?Poly Si Film Structure with High Photo-Sensitive PIN-Diode for Advanced FPD”,
Kouya Sugihara, Satoshi Chinen, Haruya Goga, Katsuya Shirai, Tatsuya Okada and Takashi Noguchi,
AMDp2 ? 8, IDW/AD ’12, p.929, 2012 (Kyoto,Nihon).

“Fabrication energy considerations of Flexible TFTs Comparison between O-TFT and LTPS TFT”,
Noriyoshi Yamauchi, Takashi Noguchi,
FLXp - 6L, IDW/AD ’12, p.789, 2012 (Kyoto, Nihon).

“Comparison of Micro Poly-Si Grains Formed by Blue Multi Laser Diode Annealing (BLDA) and Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PE-CVD)”,
Katsuya Shirai, Satoshi Chinen, Tatsuya Okada, Takashi Noguchi, Dmitri Daineka, Yvan Bonnassieux,
FMCp - 21L, IDW/AD ’12, p.553, 2012 (Kyoto, Nihon).

国内会議

“スパッタ製膜したa-Si 膜のブルーレーザアニール法による平坦な結晶化”,
岡田 竜弥, Mugiraneza J. D., 白井 克弥, 西ノ原 拓磨, 向 智之, 屋冝 佳佑, 野口 隆, 井上 和久, 山田 一雄, 長谷川 正仁、
第59 回応用物理学関係連合講演会　講演予稿集（2012 春　早稲田大学）, 17a-A6-7, p.13-133, 2012（東京）.

“ブルーレーザアニール法によるフレキシブルガラス基板上のアモルファスS i 薄膜の結晶化”,
白井克弥, J.D. M u g i r a n e z a, 岡田 竜弥, 野口隆，伊藤丈二,
第59 回応用物理学関係連合講演会　講演予稿集（2012 春　早稲田大学）, 17a-A6-9, p.13-135, 2012（東京）.

“ＢＬＤＡによるＳｉ薄膜の活性化率向上と低抵抗化”,
野口 隆, 岡田 竜弥, 白井 克弥, ムギラネーザ ジャン ディユ,井上 和久, 山田 一雄,長谷川 正仁,
第59 回応用物理学関係連合講演会　講演予稿集（2012 春　早稲田大学）, 17p-A6-5, p.13-142, 2012（東京）.

“熱プラズマジェット照射ミリ秒熱処理におけるガラス基板の非接触温度測定及びクラック発生条件の解明”,
田中敬介, 岡田竜弥, 林将平, 芦原龍平, 東清一郎,
第59 回応用物理学関係連合講演会　講演予稿集（2012 春　早稲田大学）, 17p-A6-3, p.13-140, 2012（東京）.

“ガラス基板上a-Si 膜の熱プラズマジェット結晶化におけるクラック発生と残留応力の調査”,
田中敬介，林将平，藤田悠二，岡田竜弥，東清一郎，
第73 回応用物理学会学術講演会　講演予稿集（2012 秋　愛媛大学）， 12a-F5-5， p.13-142 （松山）.

“Bドーパントの異常拡散の抑制への軟X線照射による効果”,
福岡 琢人，部家 彰，松尾 直人，春山 雄一, 神田 一浩，野口 隆,
第73 回応用物理学会学術講演会　講演予稿集（2012 秋　愛媛大学）， 11a-PB2-10， p.13-117（松山）.

“青色半導体レーザアニールによる薄膜シリコンの結晶状態の制御”,
白井克弥、 J. D. Mugiraneza、鈴木俊治、岡田竜弥、野口隆、松島英紀、橋本隆夫、萩野義明、佐保田英治、
電子情報通信学会技術報告, SDM2012-7, p.33, 2012　（那覇）.

“青色半導体レーザアニールによるポリイミド基板上薄膜シリコンの結晶化”
岡田竜弥、ムジラネザ　ジャン　ドゥ　デュ、白井克弥、鈴木俊治、野口隆、松島英紀、橋本隆夫、萩原義明、佐保田英治、
電子情報通信学会技術報告, SDM2012-8, p.37, 2012（那覇）.

“高性能ポリシリコンTFTに向けたスパッタ製膜したリンドープシリコン膜の結晶化”
西ノ原拓磨、J. D. Mugiraneza, 白井克弥、鈴木俊治、岡田竜弥、野口隆、大鉢忠、松島英紀、橋本隆夫、萩野義明、佐保田英治、
電子情報通信学会　研究会　沖縄県, 2012.

“RFスパッタ法により製膜したSiO2及びSiN製膜の電気特性評価”
屋宜佳佑、岡田竜弥、野口隆、
電子情報通信学会　研究会　沖縄県, 2012.

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