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Research Achievements

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2013

International and Domestic Conferences

International Conferences

“Effect of H2 Annealing after BLDA for Low-Cost Poly Si TFT”
Kouya Sugihara, Kiyoharu Shimoda, Tatsuya Okada and Takashi Noguchi,
AMDp2 – 10L, IDW ’12, p.423, 2013 (Sapporo).

“Fabrication of μ-poly Si TFTs with ultra-low temperature at 120℃ using BLDA ”,
K. Shimoda, K. Sugihara, T. Okada and T. Noguchi,
Proc. of IMID2013, 43-4, p.200, 2013 (Daegu, Korea).

INVITED“Possibilities of Blue Laser-Diode Annealing as a New LTPS”
T. Noguchi, T. Okada,
Proc. of AM-FPD 13, S2-3, p.75, 2013.

“Thin Film Photo-Sensor by BLDA to Realize System on Panel”
C. J. Koswaththage, S. Chinen, K. Sugihara, T. Okada, T. Noguchi,
Proc. of AM-FPD 13, P-L2, p.141, 2013 (Tokyo, Nihon).

“Laser Crystallization of Si Films and the Applications”
T. Noguchi, T. Okada,
Proc. of AWAD 13, 7A-3, p.273, 2013 (Seoul, Korea).

INVITED“New LTPS using Blue Laser Diode Annealing”
Takashi Noguchi and T. Okada,
Proc. CVCE2013 (Asan, Korea).

“Advanced Si Photo-Sensor in TFT System for FPD by BLDA”
ChangMin Keum ByungSeong Bae and Tadashi Ohachi,
Proc. of 9th International Thin-Film Transistor Conference, 1pLP08,2013 (Tokyo, Nihon).

“Fabrication Energy Evaluation of Low Temperature Poly-Silicon Thin-Film Transistors”
Noriyoshi Yamauchi , Taketsugu Itoh , and Takashi Noguchi,
Proc. of 9th International Thin-Film Transistor Conference, 2pAO04, 2013 (Tokyo, Nihon).

Domestic Conferences

“イオン注入したa-Si 膜のSPC 前後における結晶性・電気的特性の評価”
若杉智英, 岡田竜弥，青笹浩，野口隆，伊藤丈二,
電気学会九州支部沖縄支所講演会, OKI-2013-27, p.108, 2013 (琉大　西原).

“2ステップ熱アニールを施したpoly‐Siフォトセンサの作製”,
中尾浩太, 知念怜, Koswaththage Charith Jayanada, 岡田竜弥, 野口隆, 伊藤丈二,
電気学会九州支部沖縄支所講演会, OKI-2013-28, p.111, 2013 (琉大　西原).

“水素アニールによるボトムゲート型poly-Si TFT特性の向上”
安次富卓哉，杉原弘也，下田清治，岡田竜弥，野口隆,
電気学会九州支部沖縄支所講演会, OKI-2013-29, p.115, 2013 (琉大　西原).

“超低温プロセスによるpoly-Si TFTの作製と評価””,
下田清治，杉原弘也，岡田竜弥，野口隆,
電気学会九州支部沖縄支所講演会, OKI-2013-30, p.118, 2013 (琉大　西原).

招待“BLDA（青色半導体ダイオードアニール）によるSi薄膜結晶化と応用”,
野口隆, 岡田竜弥,
電子情報通信学会技術報告, SDM2013-125, p.55, 2013 (那覇).

“軟X線源を用いたSi中B原子の低温活性化技術の開発”,
部家彰，草壁史，丸山裕樹，松尾直人，神田一浩，野口隆,
電子情報通信学会技術報告, SDM2013-127, p.67, 2013 (那覇).

“冷却ホルダを用いた軟X 線照射によるSi 中B 原子の低温活性化”,
部家彰，草壁史，丸山裕樹，松尾直人，神田一浩，野口隆, 第 74 回応用物理学会秋季学術講演会　講演予稿集（2013 秋　同志社大学）, 19a-P5-10, p.13-087, 2013（京都）.

“2 ステップRTA(高温短時間アニール)によるリンドープSi 薄膜の低抵抗化”,
若杉 智英，知念 怜，岡田 竜弥，青笹 浩，野口 隆，伊藤 丈二,
第 74 回応用物理学会秋季学術講演会　講演予稿集（2013 秋　同志社大学）, 19p-B4-5, p.13-096, 2013（京都）.

“O2 混合Ar スパッタにより成膜したSiO2 膜の電気特性評価”,
井村 公彦，岡田 竜弥, 下田 清治，杉原 弘也，野口 隆,
第 74 回応用物理学会秋季学術講演会　講演予稿集（2013 秋　同志社大学）, 19p-B4-16, p.13-107, 2013（京都）.

“ブルーレーザダイオードアニール（BLDA）法による結晶化Si 膜を用いたタンデム構造薄膜太陽電池の提案”,
新垣 喬之，具志堅 貴也，岡田 竜弥，野口 隆,
第 74 回応用物理学会秋季学術講演会　講演予稿集（2013 秋　同志社大学）, 18p-A4-9, p.16-080, 2013（京都）.

“ブルーレーザアニールを施したリンドープSi 膜における電気伝導率の温度依存性”
西ノ原 拓磨，知念 怜，岡田 竜弥，野口 隆,
第60 回応用物理学会春季学術講演会　講演予稿集（2013 春　神奈川工科大学）, 29a-G6-7, p.13-007, 2013（神奈川）.

“反応性スパッタ製膜したSiNx 膜の電気特性評価”
岡田 竜弥, 屋冝 佳佑, 井村 公彦, 野口 隆,
第60 回応用物理学会春季学術講演会　講演予稿集（2013 春　神奈川工科大学）, 28p-G6-2, p.13-123, 2013（神奈川）.

“ブルーレーザアニールによるSi 膜中のスパッタリングガスの挙動”
西ノ原 拓磨，知念 怜，岡田 竜弥，野口 隆,
第60 回応用物理学会春季学術講演会　講演予稿集（2013 春　神奈川工科大学）, 29p-B8-8, p.163, 2013（神奈川）.

“軟X 線照射によるB 活性化の照射光子エネルギー依存性”
部家彰，福岡琢人，松尾直人，神田一浩，野口隆,
第60 回応用物理学会春季学術講演会　講演予稿集（2013 春　神奈川工科大学）, 29p-B8-10, p.165, 2013（神奈川）.

著書

“琉球大学編, 「知の源泉」, やわらかい南の学と思想５. 野口隆「朝鮮半島での研究生活とハングル」”
p.322-335. 沖縄タイムズ社 , 2013.

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