Noguchi Laboratory

Research Achievements

2014

Journal Papers

“Effective Laser Crystallizations of Si Films and Applications on Panel”,
Takashi Noguchi and Tatsuya Okada,
IEICE, Vol. E97-C, No. 5, pp.401–404, 2014.

INVITED“Low-resistance phosphorus-doped Si films throught blue laser diode annealing”,
Takashi Noguchi and Tatsuya Okada,
Journal of Information Display, Vol. 15, No.1, pp.47-51, 2014

“Photoconductivity of Si films after blue multi-laser diode annealing for photosensor applications”,
Charith Jayanada Koswaththage, Satoshi Chinen, Kouya Sugihara, Tatsuya Okada, and Takashi Noguchi,
Jap. J. Appl. Phys., 53, 03CB02 , 2014.

International and Domestic Conferences

International Conferences

INVITED“Advanced Crystallization of Si Films on Panel using Blue Laser-Diode”,
T. Noguchi, K. Shimoda, K. Sugihara, C. J. Koswaththage, S. Chinen, T. Okada,
Proc. ITC, Session Silicon, 2014 (Delft, Netheland).

“Low-Temperature Activation of Boron in Silicon by Soft X-ray Irradiation”,
Akira Heya, Naoto Matsuo, Kazuhiro Kanda, and Takashi Noguchi,
Proc. IWJT, S1_05, 2014 (Shanhai, China).

“A Laser Annealing Process for High-Performance Power MOSFETs”,
Y. Chen, T. Noguchi,
Proc. IWJT, S1_09, 2014 (Shanhai, China).

“Temperature Analysis of Si Films during Blue Multi-Laser Diode Annealing”,,
T. Okada, T. Oda, and T. Noguchi,
Proc. of AWAD 14, P-10, p.111, 2014 (Kanazawa, Nihon).

“Advanced Low-Temperature Poly Si TFTs without Impurity Doping using BLDA (Blue Multi-Laser Diode Annealing)”,
K. Sugihara, K. Simoda, K. Imura, T. Ashitomi, C. J. Koswaththage, T. Okada and T. Noguchi,
Proc. of AWAD 14, 3A-3, p.122, 2014 (Kanazawa, Nihon).

“High Mobility Poly-Si TFTs using BLDA for Low-Cost Process”,
Takuya Ashitomi, Kouya Sugihara, Kiyoharu Shimoda, Tatsuya Okada, Takashi Noguchi,Takahiro Miyashita, Yutaka Kusuda, and Shin-ichi Motoyama,
Proc. of IMID 14, P1-48, 2014 (Daegu, Korea).

“Electrical Characterization of SiO2 Films Deposited by RF Sputtering Using O2/Ar Mixture”,
Kimihiko Imura, Tatsuya Okada, Kiyoharu Shimoda, Kouya Sugihara, Takashi Noguchi1 and Byung Seong Bae,
Proc. of IMID 14, P1-44, 2014 (Daegu, Korea).

“Remarkable Increase in Photoconductivity of Patterned Poly-Si Thin Films by BLDA for System on Glass”,
Kota Nakao, Charith Jayanada Koswaththage, Tatsuya Okada and Takashi Noguchi,
Proc. of IMID 14, P1-47, 2014 (Daegu, Korea).

“Poly Si TFTs Formed by Low Temperature Process using Blue Laser Diode Annealing”,
T. Noguchi, K. Sugihara, K. Shimoda, T. Gushiken, T. Okada, E. Jacques, H. Dong, T. Mohammed-Brahim,
Proc. of IMID 14, 25-3, 2014 (Daegu, Korea).

INVITED “Low cost TFT Process for LTPS”,
T. Noguchi, K. Shimoda, T. Ashitomi, C. J. Koswaththage, K. Nakao and T. Okada,
Proc. of DVCE 14, p. 19, 2014 (Asan, Korea).

“Poly Si TFTs Formed below 180℃ Using Blue Laser Diode Annealing”,
T. Noguchi, T. Ashitomi, K. Simoda, T. Gushiken, T. Okada, E. Jacques, H. Dong, T. Mohammed-Brahim,
Proc. of IDW 14, p. 257, 2014 (Niigata, Nihon).

Domestic Conferences

“O₂混合Arスパッタにより室温成膜したSiO₂の電気特性評価”,
井村公彦，岡田竜弥，下田清治，杉原弘也，野口隆，
電気情報通信学会技術報告, SDM2014-13, pp.55, 2014 (那覇).

“BLDAを用いた低温プロセスpoly-Si TFT”,
下田清治，杉原弘也，井村公彦，岡田竜弥，野口隆，
電気情報通信学会技術報告, SDM2014-14, pp.59, 2014 (那覇).

“ブルーマルチレーザダイオードアニールを施したガラス上Si薄膜の光伝導特性”,
コスワッタゲー・チャリット・ジャヤナダ，知念怜，杉原弘也，岡田竜弥，野口隆，
電気情報通信学会技術報告, SDM2014-15, pp.63, 2014 (那覇).

“青色半導体レーザ照射中Si膜の温度分布解析”,
岡田竜弥，小田　貴之，上原　実結，野口　隆，
第61回応用物理学会春季学術講演会　講演予稿集（2014 春　青山学院大学）， 19a-E14-3, p.13-126, 2014（神奈川）.

“ブルーレーザーアニール法による高移動度poly-Si TFTの作製”,
杉原弘也，下田清治，岡田竜弥，野口隆，宮下準弘，楠田豊，本山真一，
第61回応用物理学会春季学術講演会　講演予稿集（2014 春　青山学院大学）， 19a-E14-4, p.13-127. 2014（神奈川）.

“高性能パワー素子特性向上のための高温短時間プロセスの検討”,
陳　訳，野口　隆，
第61回応用物理学会春季学術講演会　講演予稿集（2014 春　青山学院大学）， 20a-E14-7, p.13-193. 2014（神奈川）.

招待“ブルーレーザダイオードアニール法によるSi膜の低温結晶化とデバイス応用”,
野口 隆, 岡田　竜弥，
第75回応用物理学会秋季学術講演会　講演予稿集（2014 秋　北海道大学）, 17p-A19-2, p. 12, 2014（札幌）.

“透明導電膜付きポリカーボネート基板上における多結晶シリコン薄膜の結晶成長”,
河本　直哉，只友　一行，岡田　竜弥，野口 隆,
第75回応用物理学会秋季学術講演会　講演予稿集（2014 秋　北海道大学）, 17p-PA1-13, p. 13-074, 2014　（札幌）

“O2混合Arスパッタにより成膜した高耐圧SiO2膜の電気特性評価”,
岡田　竜弥，井村　公彦，野口 隆,
第75回応用物理学会秋季学術講演会　講演予稿集（2014 秋　北海道大学）,19p-A19-6, p. 13-110, 2014　（札幌）.

“微細化したSi膜のBLDA(Blue Laser Diode Annealing)による電気的特性の向上”,
コスワッタゲー　チャリット　ジャヤナダ, 中尾浩太, 岡田竜弥, 野口隆，
電気学会九州支部沖縄支所講演会, OKI-2014-09, p.27, 2014　（琉大　西原）.

“ガラス基板上a-Si膜に対するBLDA加熱温度解析”,
神村盛太, 岡田竜弥, 野口隆，
電気学会九州支部沖縄支所講演会, OKI-2014-10, p.30, 2014（琉大　西原）.

“TFTのゲート酸化膜応用をめざしたスパッタ製膜SiO2の低温アニール前後の電気的特性評価”,
玉城光, 井村公彦, 岡田竜弥, 野口隆,
電気学会九州支部沖縄支所講演会, OKI-2014-11, p.33, 2014（琉大　西原）.

“単結晶薄膜シリコン太陽電池の計算シミュレーション”,
玉城光, 井村公彦, 岡田竜弥, 野口隆,
電気学会九州支部沖縄支所講演会, OKI-2014-12, p.36, 2014（琉大　西原）.

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